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FLTZ 5℃~90℃
Los enfriadores térmicos LNEYA están diseñados para aplicaciones exigentes de control de temperatura y ayudan a su negocio con tecnología profesional.
La serie FLTZ 5℃~90℃ ofrece enfriadores térmicos industriales y de proceso con control preciso de temperatura. Estos enfriadores mantienen temperaturas dentro de ±0.05℃, garantizando un rendimiento estable para procesos industriales sensibles.
Cada unidad cuenta con una pantalla táctil a color que muestra información clave en tiempo real. Puede monitorear la temperatura en los puntos de control, las presiones de entrada y salida, las temperaturas del agua de condensación y enfriamiento, los parámetros de líquido y gas, el consumo de energía y los niveles del tanque de agua. Esto le ayuda a seguir el rendimiento y responder rápidamente a los cambios.
Los enfriadores térmicos FLTZ 5℃~90℃ permiten la integración del sistema y el control remoto. Puede conectar el enfriador a su equipo para monitorear las operaciones y ajustar la configuración a distancia. Su diseño compacto ahorra espacio en el piso y ofrece opciones de instalación flexibles para diferentes entornos industriales.
| Modelo | FLTZ-002 FLTZ-002W | FLTZ-003 FLTZ-003W | FLTZ-004 FLTZ-004W | FLTZ-006 FLTZ-006W | FLTZ-008 FLTZ-008W | FLTZ-010 FLTZ-010W | FLTZ-015 FLTZ-015W |
| Rango de temperatura | 5℃～90℃ | ||||||
| Precisión del control de temperatura | ±0.05℃（Temperatura de salida en estado estable） | ||||||
| Capacidad de enfriamiento @10℃ | 6kW | 8kW | 10kW | 15 kW | 20 kW | 25 kW | 40 kW |
| Volumen de fluido circulante interno | 4L | 5L | 6L | 8L | 10L | 12L | 20L |
| Volumen del depósito de expansión | 10L | 10L | 15L | 15L | 20L | 25L | 35L |
| Refrigerante | R410A | ||||||
| Medio refrigerante | Aceite de silicona, líquido fluorinado, solución acuosa de poliol, DI, etc. (la temperatura del DI debe mantenerse por encima de 10℃) | ||||||
| Tamaño de la conexión | ZG1/2 | ZG1/2 | ZG3/4 | ZG3/4 | ZG3/4 | ZG1 | ZG1 |
| Tamaño de conexión del agua de enfriamiento | ZG1/2 | ZG1/2 | ZG3/4 | ZG1 | ZG1 | ZG1 | ZG1 1/8 |
| Flujo de agua de enfriamiento @20℃ | 1.5m³/h | 2m³/h | 2.5m³/h | 4m³/h | 4.5m³/h | 5.6m³/h | 9m³/h |
| Dimensiones（cm） | 950*380*1055 | 950*380*1055 | 950*380*1055 | 980*430*1400 | 980*430*1400 | 1080*600*1500 | 1080*600*1500 |
| Control de temperatura del proceso | La temperatura objetivo remota se puede controlar combinando el auto-modelo libre con el auto-control. Algoritmo de construcción de árboles y algoritmo en cascada | ||||||
Puede cumplir con los requisitos de proceso más estrictos en la fabricación de semiconductores. Por ejemplo, en el proceso de fotolitografía, cualquier pequeña fluctuación de temperatura provocará deformación térmica del sistema óptico, y la estabilidad de la temperatura determina directamente el éxito o fracaso de la precisión de exposición.
Ha reemplazado gradualmente sustancias que agotan la capa de ozono como el R22, cumpliendo con los requisitos del período de transición del Protocolo de Montreal.
단일 장치가 기존의 분리된 냉난방 시스템을 대체하여 장비의 설치 공간을 줄이고, 매체를 변경하지 않고도 빠른 온도 변화를 실현하여 생산 효율을 향상시킬 수 있습니다.
La alta repetibilidad de los resultados de control es el indicador de rendimiento central de los enfriadores de procesos de semiconductores. Esta característica determina directamente el rendimiento y la estabilidad del proceso en la fabricación de chips.
El control preciso de la temperatura se logra recuperando el calor residual en el ciclo de refrigeración, reflejando el concepto de diseño avanzado de optimización de la eficiencia energética e integración del sistema.
Se adoptan compresores, ventiladores y bombas de frecuencia variable para controlar automáticamente el flujo y la presión de salida y reducir el consumo de energía.
El enfriador térmico FLTZ 5℃~90℃ se utiliza ampliamente en escenarios de aplicación de semiconductores que requieren control de temperatura bidireccional debido a su amplio rango de temperatura.
Limpieza de obleas
La limpieza de obleas requiere el uso de líquidos químicos como SC1 (amoníaco + peróxido de hidrógeno) y SC2 (ácido clorhídrico + peróxido de hidrógeno) para limpiar la oblea, y la temperatura de reacción debe controlarse de manera estable entre 25℃ y 80℃. El enfriador ayuda a controlar la temperatura del tanque de limpieza para evitar que el estrés térmico cause deformaciones en la oblea y prevenir el sobrecalentamiento de la unidad de bombeo.
Fotolitografía
Las máquinas de litografía DUV/EUV son extremadamente sensibles a las fluctuaciones de temperatura, por lo que se debe mantener un entorno de temperatura constante específica después del recubrimiento con fotorresistencia. Los enfriadores de semiconductores pueden proporcionar un entorno de temperatura constante para las máquinas de litografía.
Grabado
Durante el grabado en seco, la fuente de alimentación de RF de la cavidad debe mantenerse refrigerada dentro de un rango de temperatura específico para evitar el sobrecalentamiento y la desviación del proceso.
Atendido a más de 30,000 clientes.
Exportado a más de 20 países.
Ha obtenido la certificación CE, la certificación SGS y la certificación ISO.
Proporcionar formación técnica integral.
Con soluciones 24/7.
Fundada en 2010, con 15 años de experiencia en la industria.
El 20% de los empleados son técnicos.
Inspección visual.
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