LTS -20℃~80℃

2023-05-17 2173

Se utiliza ampliamente en el proceso de fabricación de semiconductores para controlar la temperatura de la cámara de reacción, la temperatura del disipador de calor y el control de temperatura del fluido no inflamable de la med...

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LTS -40℃~80℃

2023-05-17 2275

Se utiliza ampliamente en el proceso de fabricación de semiconductores para controlar la temperatura de la cámara de reacción, la temperatura del disipador de calor y el control de temperatura del fluido no inflamable de la...

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LTS -60℃~80℃

2023-05-17 2197

Se utiliza ampliamente en el proceso de fabricación de semiconductores para controlar la temperatura de la cámara de reacción, la temperatura del disipador de calor y el control de temperatura del fluido no inflamable de la med...

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LTS -80℃~80℃

2023-05-17 2134

It is widely used in the semiconductor manufacturing process to control the temperature of the reaction chamber, the temperature of the heat sink, and the temperature control of the non-flammable fluid of the heat transfer me...

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